LOADING
تبخیر کننده اشعه الکترون پردازش
EFM-H
چگونه این محصول را خریداری کنم؟
درخواست قیمت
درخواست مشاوره و مدارک فنی
پرسش
خدمات خرید VIP
شما می توانید از سرویس رایگان نمایشگاه استفاده نموده و درخواست خود را مستقیما به شرکت سازنده ارسال نمایید و پس از دریافت قیمت و با ورود اطلاعات به " ماشین محاسبه قیمت ریالی " از قیمت ریالی کالا بصورت تخمینی مطلع شوید . اگر مایلید مکاتبه با شرکت سازنده ، تبادل اطلاعات و دریافت قیمت ارزی و ریالی توسط کارشناسان این مجموعه انجام شود لطفا از این طریق اقدام فرمایید. استفاده از این سرویس مستلزم پرداخت هزینه است . برای دریافت اطلاعات بیشتر با تلفن 41995 تماس حاصل فرمایید.
ادامه
ادامه
در صورتی که قیمت ارزی محصول را در اختیار دارید پس از عضویت و ورود به سایت می توانید فرم مربوطه را تکمیل و به همراه تصویر پرفورمای شرکت سازنده ارسال نمایید تا کارشناسان ما در اسرع وقت نسبت به محاسبه هزینه های حمل و ترخیص و صدور پیش فاکتور ریالی اقدام نمایند. هزینه استفاده از این سرویس برای هر درخواست 25 یورو می باشد. صنایع معظم در صورت تمایل به استفاده از این خدمات می توانند بدون نیاز به عضویت و پرداخت هزینه درخواست خود را به همراه کپی پرفورمای شرکت سازنده به ایمیل enquiry@iranindustryexpo.com و یا فاکس 88206264 بنام شرکت مهندسی و بازرگانی مشگاد ارسال نمایند.
در صورت عقد قرار داد مبلغ دریافتی به حساب خریدار عودت می شود.
ادامه
افزودن به لیست علاقه مندی ها
سایر سازندگان این محصول
درخواست قیمت ریالی
اگر مجموعه شما جزو صنایع مادر و معظم در فیلد پالایشگاه ، پتروشیمی ، حفاری ، نیروگاه ، معادن و فلزات ، خودروسازی ، تولید مواد غذایی و دارویی و.... می باشد لطفا درخواست خود را بر روی سربرگ به فاکس 88206264 و یا ایمیل enquiry@iranindustryexpo.com بنام شرکت مهندسی و بازرگانی مشگاد ارسال فرمایید.
کارشناسان این مجموعه در اسرع وقت با شما تماس خواهند گرفت .
بازدیدکننده محترم، از اینکه سایت ایران اینداستری را برای منابع یابی انتخاب کرده اید، از شما سپاسگزاریم.
اطلاعاتی برای نماینده شرکت OMICRON در ایران یافت نشد.
لطفا با انتخاب هر یک از بخش های فوق، درخواست خود را ارسال فرمایید تا توسط واحد بازرگانی ایران اینداستری اکسپو بررسی شود.
مشخصات فنی
-
Laboratory/process:
process
-
Type:
electron beam
Beam angle: 15 max.
FWHM: 15 to 6 (approx.)
Flange to sample distance: 203 mm or larger
Insertion depth: 141.5 mm
Compatible with NGEFM or EVC Series Controllers
Options: shutter, gas inlet, pumping bypass
Effective water cooling
A FOCUS product
The EFM-H is an ideal instrument for the cleaning and etching of semiconductor surfaces (such as Si, GaAs, Ge or InP), for surface passivation, for improvement of thin film growth and other similar applications using atomic hydrogen.
The EFM-H features a cracking efficiency close to 100%, a smooth, flat and sharpely defined spot profile, a low background pressure and a surprisingly low power consumption demonstrate the outstanding performance of the EFM-H.
The typical kinetic energy of the Hydrogen atoms is about 250 meV, and neither ions nor excited molecules are produced. It is not only a well designed, but also one of the best characterised sources in the market.
FWHM: 15 to 6 (approx.)
Flange to sample distance: 203 mm or larger
Insertion depth: 141.5 mm
Compatible with NGEFM or EVC Series Controllers
Options: shutter, gas inlet, pumping bypass
Effective water cooling
A FOCUS product
The EFM-H is an ideal instrument for the cleaning and etching of semiconductor surfaces (such as Si, GaAs, Ge or InP), for surface passivation, for improvement of thin film growth and other similar applications using atomic hydrogen.
The EFM-H features a cracking efficiency close to 100%, a smooth, flat and sharpely defined spot profile, a low background pressure and a surprisingly low power consumption demonstrate the outstanding performance of the EFM-H.
The typical kinetic energy of the Hydrogen atoms is about 250 meV, and neither ions nor excited molecules are produced. It is not only a well designed, but also one of the best characterised sources in the market.